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半導體制程離心清洗機
專業攝像頭模組清洗設備,去除Holder,CMOS本體,Wafer表面之微塵顆粒。
設備特點:
·使用(yòng)于Wafer,CMOS-本體,基闆,CCD外殼粉屑、 雜(zá)質,Holder,Holder+IR,Lens,VCM等清除作業
·可(kě)調變速離心式
·全自動製程人(rén)機界面控制
·透明(míng)防爆門,作業安全确保
·鏡面不鏽鋼體封閉結構
·全系統儀表監測,符合ISO作業
·超大(dà)型Wash-Tank增加效率
·前置式作業,無二次污染
·1平方公尺設備空間,調配方便
·低噪音(yīn),無污染-無塵室專用(yòng)設計
·純水(shuǐ)自動加壓過濾
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