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高(gāo)精度光(guāng)刻機
設備功能及特點:
CI- 150A/CI-200A系統是光(guāng)刻工藝中高(gāo)度可(kě)靠、準确和(hé)快(kuài)速的(de)疊加,是半導體制造行業高(gāo)産量的(de)關鍵。憑借其爲滿足特定工藝要求而設計的(de)多(duō)種對(duì)準技術及其高(gāo)度自動化(huà),提供一流的(de)對(duì)準精度以實現最佳生産結果。
前沿模式識别,最大(dà)限度減少操作員(yuán)協助;
通(tōng)過行業領先的(de)光(guāng)均勻性和(hé)高(gāo)度精确的(de)間隙控制實現出色的(de)均勻性。
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