高(gāo)精度光(guāng)刻機
設備特點:

UV-LED光(guāng)源

安全又環保 無需預熱(rè)冷(lěng)卻
選用(yòng) UV-LED 光(guāng)源不再需 要預熱(rè)和(hé)冷(lěng)卻,因爲 LED 僅 在曝光(guāng)期間打開。這(zhè)些因素 顯著(zhe)有助于相對(duì)較低的(de)能源 消耗。LED 的(de)使用(yòng)壽命比傳 統燈高(gāo)出許多(duō)倍,從而降低 了(le)更換燈泡所産生的(de)成本。 停工、購(gòu)買新燈、調整和(hé)處 理(lǐ)舊(jiù)材料都已成爲過去。使 用(yòng) LED 燈箱既安全又環保, 是健康和(hé)職業安全以及環境 保護方面的(de)重要進步。

高(gāo)精度自動套刻系統

性能提升 品質升級
作爲全場(chǎng)曝光(guāng)系統, CI-150A/CI-200A能夠一 次曝光(guāng)150mm/200mm 晶圓,此系統光(guāng)均勻性已 超過95%,更能提升産 品品質。它更高(gāo)的(de)吞吐 量和(hé)更低的(de)投資成本直 接轉化(huà)爲更低的(de)擁有成 本,使其成爲适用(yòng)于各 種光(guāng)刻工藝的(de)最佳決方 案。

卓越的(de)光(guāng)均勻性

高(gāo)精度 更精準
采用(yòng)頂部對(duì) 準系統, 選用(yòng)高(gāo) 清相機及大(dà)視野 鏡頭, 納米級對(duì) 位承載平台以及 低頻(pín)隔振系統, 在将掩模定位在 晶圓上時(shí)可(kě)實現 低至 0.5 μm 的(de) 對(duì)準精度 。
主要技術參數:
波長(cháng) :
光(guāng)源 :
XX :
作業模式 :
照(zhào)度能量 :
照(zhào)度均勻性 :
曝光(guāng)有效範圍 :
曝光(guāng)模式 :
曝光(guāng)間隙 :
晶圓厚度 :
曝光(guāng)分(fēn)辨率(最小線寬) :
Theta軸移動精度 :
晶圓尺寸 :
光(guāng)罩尺寸 :
分(fēn)辨率 :
X軸運動行程 :
Y軸運動行程 :
放大(dà)倍率 :
視野範圍(FOV) :
對(duì)準精度 :
卡匣傳送方式 :
型式/Type :
對(duì)位精度 :
定位精度 :
圓片式(矽) :
I-Line 365
UV LED
DC電源模塊
恒電流
50mw/cm²(I-Line)
≤5%
170mm*170mm/230mm*230mm
近接式
10um
0.8mm—1.4mm
1um(最小0.35um)
±0.001°
4、5、6、8
5、6、7、9
100nm
±50mm
±50mm
放大(dà)倍率
視野範圍(FOV)
對(duì)準精度
可(kě)選擇放置 A進A出或A進B出
6寸/8寸cassette/Open cassette
≤±0.5um
±0.1°
缺口/切邊
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